ULTRATECH SAVANNAH G2 ALD
OccasionUltratech Inc · SAVANNAH G2
Caractéristiques techniques
Marque
Ultratech Inc
Modèle
SAVANNAH G2
Description
ULTRATECH SAVANNAH G2 Système de dépôt par laser atomique Volts : 100-120 VAC KVA : 1.5KVA-2KVA HERTZ : 50-60 Hz La plateforme Savannah G2 intègre une large gamme d'options avancées et évolutives destinées à aider les chercheurs sérieux à élargir leur portefeuille de films ALD disponibles, et à leur permettre de caractériser les films en temps réel. Parmi les options du Savannah G2, un système unique de livraison de précurseurs à faible teneur en vapeur a été développé pour permettre la croissance de nouveaux matériaux, y compris des films à un ou plusieurs composants de pérovskite, d'yttrium, de lithium et des familles de terres rares. Des options supplémentaires telles que l'ellipsométrie, la microbalance à cristal de quartz (QCM) et la spectrométrie de masse permettent la croissance simultanée de films ALD et la caractérisation en temps réel du processus de dépôt, qui sont toutes des capacités indispensables pour les activités de développement et d'optimisation des processus.
Cette catégorie regroupe les équipements de fabrication, de test et de métrologie utilisés dans le traitement des wafers et la production de composants semi-conducteurs. Utilisé en fonderie de semi-conducteurs (fab) et laboratoires de test, partout où des plaquettes de silicium doivent être traitées, mesurées ou testées avec une précision micrométrique. Le prix va de 20 000-100 000 € pour un équipement de test ou de métrologie d'occasion à plus de 1 000 000 € neuf pour une machine de traitement de wafer haute précision. Durée de vie de 10 à 20 ans, la précision de calibration et la propreté de la chambre de traitement étant les points critiques à surveiller. Nécessite une alimentation électrique stabilisée, un environnement de salle blanche pour la plupart des équipements, et un contrôle strict de la température et de l'hygrométrie.
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